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　　荷蘭光刻機出口政策“對齊”美國

　　9月6日，荷蘭政府發(fā)布有關(guān)浸潤式 DUV光刻設備出口的最新許可證要求。該政策與美國的出口管制要求“對齊”，9月7日生效。同日，荷蘭光刻機廠商ASML（阿斯麥）回應，“荷蘭政府更新出口許可要求后，ASML將需要向荷蘭政府而非美國政府申請 TWINSCAN NXT：1970i和1980i型號浸潤式DUV光刻系統(tǒng)的出口許可證。之前，荷蘭政府已經(jīng)開始對更先進的TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)實施出口許可證要求。ASML EUV光刻系統(tǒng)的銷售也受到出口許可證要求的限制?！?/P>