【財新網(wǎng)】受到網(wǎng)絡(luò)熱炒的“國產(chǎn)光刻機工廠”被證實是一場烏龍。近日，國家開發(fā)投資集團下屬中國電子工程設(shè)計院有限公司（下稱“中國電子院”）發(fā)聲明稱，短視頻平臺熱傳的“國產(chǎn)光刻機工廠”項目配圖為該院在北京懷柔建設(shè)的北京高能同步輻射光源項目（HEPS）。該項目是國家“十三五”重大科技基礎(chǔ)設(shè)施，是中國第一臺高能量同步輻射光源，2019年就開始了建設(shè)，將于2025年投入使用。

　　據(jù)中國電子院介紹，HEPS項目是通過加速器將電子束加速到6GeV（十億電子福特，能量單位），然后注入周長1360米的儲存環(huán)以光速維持運轉(zhuǎn)，電子束在儲存環(huán)的不同位置會沿偏轉(zhuǎn)軌道切線的方向，釋放出穩(wěn)定、高能量、高亮度的光，即同步輻射光。同步輻射光可穿透物質(zhì)、深入內(nèi)部進行立體掃描，從分子、原子的尺度觀察微觀世界，相當于一臺巨型X光機，而并不是網(wǎng)傳的光刻機工廠。